二氧化tai研磨分散機(jī)是針對(duì)二氧化tai粉體設(shè)計(jì)的專用設(shè)備，通過研磨腔高速剪切、沖擊與研磨介質(zhì)作用，實(shí)現(xiàn)粉體解聚、細(xì)化與均勻分散。它能解決二氧化tai易團(tuán)聚問題，提升其在涂料、塑料等領(lǐng)域的分散性與光學(xué)性能，具備處理效率高、粒徑可控的優(yōu)勢(shì)，滿足不同行業(yè)對(duì)二氧化tai分散質(zhì)量的要求。
二氧化tai研磨分散機(jī)
【SID工業(yè)設(shè)備用于二氧化tai分散和研磨的優(yōu)點(diǎn)】
一、縮短工藝時(shí)間。SID高剪切乳化分散設(shè)備可以迅速地混合分散二氧化tai粉末，并消除結(jié)塊和團(tuán)聚。SID也提供PLD和PLC粉體/液體混合機(jī)，將粉體直接加入液體，無需循環(huán)處理，一次性通過便可成型。
二、提高品質(zhì)。SID高剪切混合機(jī)可以打碎結(jié)塊粉體，并與液體充分混合。這樣可以改善產(chǎn)品光澤和透明度，這兩個(gè)特征由分散好壞直接決定。
三、減少資金投入。SID磨機(jī)可以程度縮小粒徑，達(dá)到窄粒徑分布。SID分散研磨設(shè)備的流量比同類研磨設(shè)備高出很多，但也可達(dá)到相類似的效果。模塊化設(shè)計(jì)的SID 2000系列產(chǎn)品，可以幫助客戶節(jié)約資金投資。
【SID研磨分散機(jī)的簡(jiǎn)介】
GMD2000系列研磨分散設(shè)備是SID公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝，我們將三級(jí)變跟為一級(jí)，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料，然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）
【SID研磨分散機(jī)的簡(jiǎn)介】
GMD2000系列研磨分散設(shè)備是SID公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝，我們將三級(jí)變跟為一級(jí)，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料，然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）
二氧化tai研磨分散機(jī)設(shè)備參數(shù)表：
研磨分散機(jī) | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
GMSD2000/4 | 400 | 14,000 | 44 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD2000/5 | 1000 | 10,050 | 44 | 11 | DN40/DN32 |
GMSD2000/10 | 3000 | 7,500 | 44 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD2000/20 | 8000 | 4,900 | 44 | 45 | DN80/DN65 |
GMSD2000/30 | 20000 | 2,850 | 44 | 90 | DN150/DN125 |
GMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 44 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到最大允許量的 10%。 | |||||
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